Интересное сообщение появилось на информационных лентах агентства Reuters. Согласно ему, корпорации Intel, Toshiba и Samsung Electronics собираются объединить усилия в деле разработки технологий, которые позволят выпускать микрочипы по производственным нормам менее 20 нанометров. Предполагается, что трио IT тяжеловесов ставит перед собой весьма амбициозную задачу – создать возможности для производства чипов по нормам, близким к 10 нм техпроцессу, уже к 2016 году. «Чистая комната» в лаборатории Intel в Санта-Кларе (Калифорния, США; фото Paul Sakuma / AP). Напомним, Samsung Electronics и Toshiba занимают соответственно первое и второе место в списке крупнейших производителей памяти типа NAND, а Intel уже достаточно давно носит гордое звание ведущего мирового чипмейкера. Кроме того, к участию в данном проекте, как сообщается, будут приглашены и другие фирмы, занятые в сфере полупроводников.На начальном этапе в проект вложат 10 млрд иен (приблизительно $122 млн), из которых половину, предположительно, предоставит Министерство экономики, торговли и промышленности Японии (METI). http://news.ferra.ru/hard/2010/10/30/104639/ 30.10.2010